Il design di alta precisione MORSETTO DI SBLOCCO deve tenere conto di molteplici aspetti per far fronte ai severi requisiti della lavorazione dei wafer semiconduttori.
Seleziona materiali di elevata purezza come acciaio inossidabile, ceramica o leghe speciali per garantire che non vengano introdotte impurità durante il processo di lavorazione e abbiano una buona resistenza alla corrosione per resistere all'erosione chimica nell'ambiente di lavorazione dei wafer. Utilizzare materiali morbidi come poliuretano e gomma sulla superficie di bloccaggio oppure applicare rivestimenti speciali per ridurre la concentrazione di stress e i rischi di graffio sulla superficie del wafer. Progetta meccanismi di allineamento precisi per garantire che il wafer possa essere posizionato accuratamente durante il processo di bloccaggio per evitare graffi o rotture causate dal disallineamento. Allo stesso tempo, il meccanismo di bloccaggio deve avere un'elevata stabilità per resistere alle vibrazioni e agli urti durante la lavorazione.
In base al diverso spessore e materiale del wafer, progettare un meccanismo di forza di serraggio regolabile per garantire che il wafer possa essere bloccato saldamente senza danneggiarne la superficie a causa di un serraggio eccessivo. La superficie di bloccaggio del RELEASE CLAMP è lucidata con precisione per garantire una superficie liscia e ridurre la possibilità di graffi. Allo stesso tempo, prima della lavorazione viene effettuato un rigoroso trattamento di pulizia per rimuovere le impurità superficiali e prevenire la contaminazione del wafer.
Integra sensori ad alta precisione come sensori di posizione e sensori di forza per monitorare la posizione e la forza di serraggio del wafer in tempo reale. Un sistema di controllo a circuito chiuso viene utilizzato per regolare l'azione del meccanismo di bloccaggio in tempo reale in base alle informazioni restituite dal sensore per garantire la stabilità e la precisione del processo di bloccaggio.
Il CLAMP RELEASE ad alta precisione svolge un ruolo indispensabile nella lavorazione dei wafer semiconduttori e il suo valore applicativo si riflette principalmente nei seguenti aspetti:
Riducendo graffi e contaminazione, RELEASE CLAMP ad alta precisione aiuta a migliorare la planarità e la pulizia della superficie del wafer, migliorando così le prestazioni e l'affidabilità dei dispositivi a semiconduttore; prestazioni di bloccaggio stabili e meccanismo di allineamento preciso garantiscono la stabilità e la precisione del wafer durante la lavorazione, riducono il tempo sprecato a causa del riposizionamento o della riparazione dei graffi e quindi migliorano l'efficienza della produzione. Ridurre la rottura dei wafer e il tasso di scarto significa ridurre i costi di produzione e gli sprechi. Allo stesso tempo, la durata e la stabilità del RELEASE CLAMP ad alta precisione riducono anche la frequenza di manutenzione e sostituzione, riducendo ulteriormente i costi di produzione. Con il continuo sviluppo della tecnologia dei semiconduttori, i requisiti per la precisione della lavorazione dei wafer diventano sempre più elevati. Essendo una delle tecnologie chiave, la continua innovazione e il miglioramento del RELEASE CLAMP ad alta precisione promuoveranno il continuo progresso della tecnologia di lavorazione dei semiconduttori.